場效發射式掃描電子顯微鏡 Multi- functional Field-Emission Scanning Electron Microscope
多功能場發射掃描式電子顯微鏡 Multi- functional Field-Emission Scanning Electron Microscope

場效發射式掃描電子顯微鏡(FE-SEM)

Multi- functional Field-Emission Scanning Electron Microscope

一、設備基本資料:

功能簡介:

觀察材料表面縱深形貌,放大倍率可達30萬倍。

應用領域:

包含奈米材料、半導體、封裝、印刷電路板、BGA、光碟片、LED等產業之表面、故障分析等。

二、設備型錄資料:

廠牌及型號: LEO1530

詳細功能規格:

重要規格: field emission (schottky type)電子槍、解析度5.0nm(1kV),1.0nm(15~20kV)、操作電壓0.5~30kV、Probe current: Max. >5 nA 、Measurement   function: X, Y 方向距離、任兩點距離、夾角,均可同時多組量測。
主要附件: Windows NT control system、EDAX EDS(X-RAY 能譜儀)。
儀器性能: 低能量高影像解析度 5.0nm(1kV),1.0nm(15~20kV)、附加之EDS可做元素分析。

服務項目:

表面影像觀察、元素分析。

特別注意事項:

樣品或試片準備需知: 樣品材質為固體、尺寸3mm∼50mm見方或圓形或粉體、厚度<2cm。
工作環境要求: 有空調環境、隔磁、防震。
不提供服務項目: 樣品屬於高蒸氣壓經抽氣0.5小時後,真空壓力無法達到2*10-5mBar者,恕不分析。

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多功能場發射掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)

Multi- functional Field-Emission Scanning Electron Microscope

一、設備基本資料:

功能簡介:

多功能場發射掃描式電子顯微鏡附加了能量分散X光譜儀(EDS)、陰極發光分析儀(CL)及電子背向散射繞射儀(EBSD),主要應用於固態、奈米材料的表面形貌及微結構影像觀察,並同時進行微區的化學組成、發光特性及結晶方位等分析。EDS用於成份分析,包括定性、半定量、特定區域化學元素之mapping及line scan等。CL用於發光光譜量測、CL影像分析、微量雜質、缺陷分析等。EBSD用於多晶材料之晶體結構、取向、微區織構、晶粒、晶界性質分析等。

應用領域:

一般金屬、陶瓷、半導體、高分子等材料領域之微觀組織、成份、發光特性研究。奈米材料、奈米元件之形貌、結構分析。IC半導體、封裝、光碟、LED等光電相關產業之破壞、故障分析等。

二、設備型錄資料:

廠牌及型號: JEOLJSM-6500F

詳細功能規格:
重要規格:
Gun:
In-lens Thermal Field Emission Gun (Schottkey type)
Resolution:
1.5nm(at 15kV), 5.0nm(at 1.0kV) (SEI Image)
Operation Voltage:
0.5~30kV Probe Current: 200nA Max.
Specimen Stage:

Eucentric

X=70mm,  Y=50mm,  Z=23.5mm (WD=3~41mm)

T=-5~65°, R=360°

Max. Specimen Size:
25mm dia X 10mm H
主要附件:
EDS system (Oxford INCA Energy 300)
EBSD system (Oxford INCA Crystal 300)
CL system (Gatan MonoCL3 plus HSPMT)
儀器性能:
Microstructure and Morphology Image (SEI, BEI, CL Image)
Chemical Analysis of Specimen Composition
CL Spectrum Measurement
Electron Bask-scattered Diffraction Pattern (EBSP)
Orientation Imaging Microscopy (OIM)
Crystal Orientation and Micro-texture
Grain/Grain Boundary Properties

服務項目:

塊材、薄膜、粉體等微觀組織、結構影像觀察及成份分析。
陰極發光材料影像分析、光譜量測。
多晶材料結晶取向、織構及晶粒尺寸量測。

特別注意事項:

樣品或試片準備需知:
固態材料,須乾燥,真空中不具揮發性,電子束照射不會分解或揮發。

試片大小:直徑≦ 2.5 cm,厚度≦1 cm。

試片製作及特殊試片之準備方式如有問題請與儀器負責人聯絡。

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