若無法正常瀏覽內容，請點選此線上閱讀 (系列二)極致EUV微影微細化用光阻劑材料開發研討會 一、 研討說明 本研討會邀請Japan EIDEC計畫參與日本廠商之一、藤森亨先生／富士Film(株)，分享EUV光阻劑材料開發經驗。他曾經於2015年開發出新型光阻劑，加速10奈米製程進展的重大突破。 （註：EIDEC國家計畫全名「極紫外光微影基礎設施研發中心」是政府與日廠合作的研發中心） 二、 時間/地點 2021年11月9日 10:00 ~ 12:00 線上雲端視訊 （MS Teams） 三、 議程大綱 時間 主題 大綱 主講人 10:00-10:20 應用市場的環境變化 -數位化環境-電子設備高速化、大容量化、省電力化之實例 藤森亨 10:20-10:50 微影微細化之演進 -曝光波長短波化，以達成微影微細化-ArF液浸微影-富士Film的NTI技術延續ArF液浸微影 藤森亨 10:50-12:00 EUV微影 -EUV微影演進-解決Outgas問題、金屬光阻之技術開發的EUV微影 要素開發經驗 藤森亨 立即線上報名 四、 主講人介紹 藤森 亨／富士Film(株)研發總部 電子材料研究所 經理。 1991年進入富士Film公司之後，歷經Photo Film、半導體新材料(Photoresist)、Color resist等的研究開發、商品量產化、統籌工作。自2014年起在國家計畫EIDEC研發EUV用光阻劑材料，並從事EUV開發的生產線工作。超過200件專利申請。 五、 參加辦法 請洽詢 張小姐 (02) 2536-4647#10 （sumken@sum-ken.com） 每場次報名費 1,000元（來1贈1，共兩個名額） 半導體前瞻技術系列2hrs研討會 10月13日13:30-15:30 系列一、感光性聚醯亞胺及IC實裝應用研討會 富川 真佐夫TORAY(株) 研發本部 理事 10月12日10:00-12:00 系列三、高頻LCP表面改質-無須微影製程之電路形成 渡邊 充廣關東化成(株)退役專家 10月20日10:00-12:00 系列四、高頻LCP-材料設計及各種應用 長永 昭宏PolyPlastics(株) 11月9日14:00-16:00 系列五、高頻LCP低介電損失減半（採分子設計開發） 鷲野 豪介ENEOS(株) 機能材料研究開發部LCP技術中心 經濟部工業局廣告 指導單位：經濟部工業局 主辦單位：公私(產學)共育國內外高階人才計畫 執行單位：財團法人資訊工業策進會 協辦單位：三建資訊有限公司 訂閱│推薦訂閱│取消訂閱