日本USHIO電機成功於CNF薄片上形成微細圖案

 

刊登日期:2019/7/10
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日本USHIO電機公司於日前發表成功地在纖維素奈米纖維(CNF)透明薄片上製作出微細圖案(Patterning)。採用的CNF透明薄片為王子Holdings所開發的「AURO Veil」,透過真空紫外線(VUV)製作出親水化圖案,不需藥液處理,即實現了線寬/空隙(L/S)為10/10μm的圖案。

此外,新技術採用了USHIO電機在2017年實用化的圖案化裝置「VUV Aligner」,可以達到一般印刷製程所難以達到的微細圖案,且不需要一般微影製程中必要的藥液處理或複雜工程。藉由此項新技術,附有微細圖案的CNF透明薄片將可望應用於穿戴式裝置感測器、有機電晶體、生物質裝置等實用化用途。


資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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