TPR以其奈米多孔狀材料技術擴大應用至電極材料、觸媒等用途

 

刊登日期:2019/4/9
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日本TPR公司將利用選擇性去合金腐蝕法(Dealloying),推動奈米多孔狀(Porous)材料的用途開發。

選擇性去合金腐蝕法是利用混合熱將2種類以上的元素成份組成的合金固體,選擇性地將特定成份溶除後,讓剩餘下來的成份元素形成多孔狀的構造體。雖然一般以酸∕鹼水溶液浸漬的方法能夠製作貴金屬或鐵、鈷、鎳等鐵系元素的多孔狀構造體,但金屬組合將卑金屬或半金屬做為殘存成份的的話,反應過程中會氧化,而選擇性去合金腐蝕法則可適用於此類金屬組合。

TPR公司自2015年起即與東北大學共同進行同時擁有高結晶性與大比表面積之開孔型(Open Cell)孔洞碳材料(Porous Carbon Materials)的開發。由於是在鉍(Bi)的熔融金屬(molten metal)中浸漬碳化錳(Manganese Carbide),數奈米~數百奈米大小的中孔-大孔(Mesopore-Macroporous)連續地連結,形成特殊的多孔狀構造,因此對氣體或液體具有優異的物質輸送性。此次由於可製作碳以外的材料,包括多孔矽(Porous Silicon)、多孔鐵‧不鏽鋼等各種材料,因此TPR公司決定加速其事業化發展,並就製作所得材料的特性,對電極材料、觸媒、濾網等各類用途領域進行應用推廣。


資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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