濺鍍成膜之高機能微粒子塗佈技術

 

刊登日期:2017/8/24
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日本KYODO INTERNATIONAL公司利用半導體製程中的濺鍍(Sputtering)設備,新開發了一項微粒子塗佈技術,可在μm大小的微粒子表面形成奈米單位的被覆膜層。由於可利用既有的濺鍍靶材,因此金屬、陶瓷、聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene;PTFE)等有機物及碳材料、磁性體(Magnetic Body)等塗佈體皆可適用,且微粒子亦可應用於絕緣體、導電體等。與既有的濕式法相比,後處理的負擔也比較小。

此外,KYODO INTERNATIONAL也提供多種比重不同的微粒子混合粉體,除了電池材料等高機能電子、化學材料之外,亦可望應用於磁性體的燒結母材、觸媒、3D印刷材料等各種類用途。


資料來源: 化學工業日報 / 材料世界網編譯
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