日本 HONNY化成公司所開發的丙烯酸電鍍光阻「HONNYRESIST」系列中「E-2000」正朝著 COF等 RtR 用途發展中。但是負型光阻在殘留曝光部有著難以保護孔洞內部與凹部的問題。該公司研發出的新產品「AP-1000」為正型陰離子電鍍光阻，從 Line/Space 7/7μ 的細緻圖樣，到 50/50μ 的厚膜皆可對應，且膜的厚度具有均一性及抗藥性，因而廣受好評。此外，負型光阻產品中，也針對低溫 UV-LED 曝光的訴求，向客戶提供 50℃的低溫曝光製程，可降低覆膜的可能性。
電鍍光阻雖然有著高速、RtR 對應等優點，但近年來因 COF 製品的減少、乾膜光阻（DFR）的崛起等而需求下降。但隨著新產品的推出，其立體造型、曲面的盲孔深鍍性，賦予了無孔洞及均一性等特性，因使用立體迴路設計與厚膜電阻的微小電子儀器系統（MEMS）等而再次獲得市場的好評。